梁孟松离职后,三星芯片工艺水平引发热议

【ITBEAR】在半导体行业的激烈竞争中,3nm芯片成为了各大厂商竞相追逐的焦点。苹果、联发科、高通等巨头纷纷发布采用台积电第二代3nm工艺的芯片,这一趋势也蔓延至英伟达、AMD和intel。台积电因此在这个领域占据了几乎全球100%的市场份额,其3nm芯片已占公司营收的20%。

相比之下,三星在3nm工艺上的表现却不尽如人意。尽管曾提出追上甚至超越台积电的口号,并投入巨资,但三星的3nm良率问题严重,导致原有客户纷纷转向台积电。

三星的工艺问题,其实与梁孟松的离开密切相关。这位技术高手曾在三星任职,助力三星在工艺上取得重大突破。然而,自梁孟松离开后,三星的工艺水平逐渐落后于台积电。

梁孟松在2011年加入三星,2015年助力三星从28nm直接跃升至14nm工艺,并采用当时最先进的FinFET晶体管技术。这使得三星在当时与台积电并驾齐驱,甚至获得了苹果的A9订单。

然而,2017年梁孟松离开三星,加入中芯国际后,三星的工艺发展开始滞后。在10nm工艺上还能勉强与台积电抗衡,但到了7nm工艺,三星已经明显落后于台积电。

三星在工艺上的注水行为也逐渐被曝光。在相同工艺下,三星的晶体管密度远低于台积电。这使得三星在工艺上的命名更为激进,以试图掩盖其技术上的不足。

尽管三星试图通过各种手段来弥补技术上的不足,但客户的眼睛是雪亮的。在性能和功耗的对比下,三星的芯片逐渐失去了市场。